4조 반도체 기술 中 유출’ 혐의 삼성·하이닉스 전직 임원, 보석으로 풀려나

삼성전자가 4조원을 들여 독자 개발한 D램 공정 기술을 중국에 유출한 혐의로 기소된 삼성전자·하이닉스반도체(현 SK하이닉스) 전직 임원 최진석씨가 1심 재판을 받다가 보석 석방된 것으로 29일 전해졌다.

최씨 등이 유출한 D램 반도체 공정 기술은 삼성전자가 약 4조원을 투입해 개발한 국가핵심기술로 알려졌다. 검찰에 따르면 최씨는 범행 대가로 중국 반도체 회사 지분 860억원 상당을 받고, 보수 명목으로 18억원의 범죄수익을 취득한 것으로 조사됐다.

최씨가 오씨와 함께 운영하던 중국 반도체 제조업체 청두가오전(CHJS) 법인도 같은 혐의로 재판에 넘겨졌다.